LQ-CB-CTP PLATTENPROZESSOR

BESONDERHEIT

⁃ Tauchwalze mit stufenloser Geschwindigkeitsregulierung, ermöglicht einen automatisierten Arbeitsablauf.
⁃ Vergrößerter LED-Bildschirm, 6-Schalter-Bedienung, benutzerfreundliche Oberfläche.
⁃ Fortschrittliches System: unabhängiges elektrisches Software-Steuerungssystem, programmierbares Mikroprozessor-Steuerungssystem, 3 Waschoptionen, Entwicklungsflüssigkeits-Temperaturkontrollsystem, das die Entwicklungstemperatur auf genau ±0,3℃ regelt.
⁃ Entwicklungsflüssigkeit, die je nach Verbrauch automatisch nachgefüllt wird, trägt dazu bei, eine längere Flüssigkeitsaktivität aufrechtzuerhalten.
⁃ Filter können in wenigen Augenblicken leicht entfernt und gereinigt oder ausgetauscht werden.
⁃ Entwicklungstank mit großem Fassungsvermögen, breiter Φ54 mm (Φ69 mm), säure- und alkalibeständiger Gummischaft, der Haltbarkeit und Stabilität der Platte gewährleistet.
⁃ Kompatibel mit Schaftbürsten unterschiedlicher Härte und Material.
⁃ Nachwaschfunktion für optimale Sauberkeit des Layouts.
⁃ Energiesparender und kostenreduzierender automatischer Schlafmodus, automatisches Leimrecyclingsystem und hocheffizientes Heißlufttrocknersystem.
⁃ Verbesserte Kommunikationsschnittstelle verbindet sich direkt mit CTP.
⁃ Ausgestattet mit einem Notschalter und einem Warnsystem, um Fehlfunktionen durch Überhitzung, Trockenheizung und niedrigen Flüssigkeitsstand zu verhindern.
⁃ Einfache Wartung: Welle, Bürste, Umwälzpumpen sind abnehmbar.

TECHNISCHE PARAMETER

BILDER