LQ-CFP সিরিজ রাসায়নিক-মুক্ত (নিম্ন) প্রসেসর
বিশেষত্ব:
1. সম্পূর্ণ স্বয়ংক্রিয় প্রক্রিয়া নিয়ন্ত্রণ, সমস্ত ধরণের 0.15-0.30 মিমি প্লেটের জন্য উপযুক্ত।
2. ডিজিটাল প্রক্রিয়াকরণ পদ্ধতি ব্যবহার করুন, স্ট্রোকের গতি এবং ব্রাশের গতি উভয়ই ক্রমাগত পরিবর্তনশীল সংক্রমণ অর্জন করতে পারে।
3. গঠন সহজ এবং বিচ্ছিন্ন করা সহজ, ডুয়াল ব্রাশ ডিজাইন এবং আরও ভাল পরিষ্কার করা।
4. দীর্ঘ সময় স্ট্যান্ডবাই থাকার সময় শুষ্ক এড়াতে স্বয়ংক্রিয় রাবার রোলার ভেজানো ফাংশন ব্যবহার করুন।
5. স্বয়ংক্রিয় পরিষ্কার আঠালো রোলার ব্যবহার করুন আঠালো দৃঢ়ীকরণ এড়াতে যখন দীর্ঘ সময় স্ট্যান্ডবাই.
6. ট্রান্সমিশন অংশ সুপার পরিধান-প্রতিরোধী উপকরণ সঙ্গে, কোনো অংশ প্রতিস্থাপন ছাড়া তিন বছরের জন্য অবিচ্ছিন্ন ব্যবহার নিশ্চিত.
7. পরিষ্কার জল চক্র প্রক্রিয়াকরণ সিস্টেম, 90% বর্জ্য জল স্রাব কমাতে.
স্পেসিফিকেশন:
| মডেল | LQ-CFP880A | LQ-CFP1100A | LQ-CFP1250A | LQ-CFP1450A |
| সর্বোচ্চ প্লেট প্রস্থ | 880 মিমি | 1150 মিমি | 1300 মিমি | 1500 মিমি |
| ন্যূনতম প্লেটের দৈর্ঘ্য | 300 মিমি | |||
| প্লেটের বেধ | 0.15-0.4 মিমি | |||
| শুকনো তাপমাত্রা | 30-60ºC | |||
| Dev.speed(সেকেন্ড) | 20-60 এর দশক | |||
| Brush.speed | 20-150(rpm) | |||
| শক্তি | 1ΦAC22OV/6A | |||
টাইপ A:কম রাসায়নিক চিকিত্সা, পরিষ্কার, আঠালো, শুকানো এবং অন্যান্য ফাংশন সহ, CTP প্লেটের বিভিন্ন কম রাসায়নিক চিকিত্সার জন্য উপযুক্ত।
টাইপ বি:সমস্ত রসায়ন-মুক্ত CTP প্লেটের জন্য উপযুক্ত, পরিষ্কার করা, আঠালো, শুকানোর ফাংশন এবং তাই।
